2013年全国高校自主招生化学模拟试卷九

发布时间:2023-10-29 10:01:33    来源:查看试卷    点击:2258   
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(共6分) 实验室制备少量硅一般采用镁粉还原SiO2的方法,然后用稀盐酸洗涤产品以除去杂质。某同学在进行上述操作时,在制得的产品中加HCl洗涤时突然起火。

(1)请用化学方程式解释:

①稀盐酸洗涤产品可除去哪些主要杂质?

②为什么加HCl洗涤时突然起火?

(2)请设计一个实验来验证你的解释。(不必画出装置图,也不必指出具体化学药品,不要写方程式,只要简明指出方法。)


答案及解析:

知识点:综合性实验

1(6) (1) 2HCl+MgOH2O+MgCl2

2HCl+MgH2↑+MgCl2

SiO2+4MgMg2Si +2MgO

Mg2Si+4HClSiH4+2MgCl2

SiH4+2O2SiO2+2H2O

(2) N2保护下(或惰性气体),对硅烷气体进行检验。

SiH4+2KMnO4H2+K2SiO3+2MnO2↓+ H2O (不要求)

(方程式各1分,检验1)